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产品概述：
诺泰高真空PECVD系统是由管式炉，真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能，PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。

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高真空PECVD系统主要特点：

1.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3.可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5.广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。